Characteristics of Ir, Ru as diffusion barrier of stacked capacitor for high density non-volatile memory

FRAM 고집적 메모리를 위한 stack형 capacitor에서의 Ir,Ru의 diffusion barrier 특성

  • 한귀영 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김호기 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 2000.04.21