Ti/Al 구조에서 FE-(S)TEM을 이용한 계면반응층의 평가

Analysis of Interface Layer by FE-(S)TEM in the Ti/Al Structure

  • 양준모 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 최진태 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 성해숙 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 박태수 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 이태권 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 백태선 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 박주철 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 이순영 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 이석재 (현대전자 메모리(연) 선행공정5팀)
  • 발행 : 2000.11.01