Crystallographic Characterizations of $Al_2O_3\;and\;ZrO_2$ Films Deposited by ALD
ALD 법으로 증착한 $Al_2O_3$ 및 $ZrO_2$ 박막의 결정학적 특성 평가
- Kim Jung-Jeong ;
-
Yang Jun-Mo
;
- Kim Won ;
- Go Jun-Gyu ;
- Park Ju-Cheol ;
- Lee Sun-Yeong ;
- Park Dae-Gyu ;
- Im Gwan-Yong ;
- Jo Heung-Jae
- 김중정 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
-
양준모
(현대전자 메모리(연) 분석개발팀)
;
- 김원 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
- 고준규 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
- 박주철 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
- 이순영 (현대전자 메모리(연) 분석개발팀) ;
- 박대규 (현대전자 메모리(연) 선행공정3팀) ;
- 임관용 (현대전자 메모리(연) 선행공정3팀) ;
- 조흥재 (현대전자 메모리(연) 선행공정3팀)
- Published : 2000.11.01
Abstract
Keywords