한국전자현미경학회:학술대회논문집

Korean Society of Microscopy (한국현미경학회)
권호 표지

Crystallographic Characteristics of an Epitaxial C49-$TiSi_2$ Phase Formed in the Si(001) Substrate by $N_2$ Treatment

Si(001) 기판에서 $N_2$ 처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-$TiSi_2$상의 결정학적 특성에 관한 연구

  • 양준모 (현대전자 메모리(연) 분석개밭팀) ;
  • 박태수 (현대전자 메모리(연) 분석개밭팀) ;
  • 백태선 (현대전자 메모리(연) 분석개밭팀) ;
  • 김원 (현대전자 메모리(연) 분석개밭팀) ;
  • 박주철 (현대전자 메모리(연) 분석개밭팀) ;
  • 이순영 (현대전자 메모리(연) 분석개밭팀)
  • Published : 2000.05.01
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Abstract

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