Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical Engineers (대한전기학회)
권호 표지

PID controller design for profile of the RTP system

RTP시스템의 프로파일작성을 위한 PID제어기 설계

  • Hong, Sung-Hee (The Dept. of Electrical & Computer Eng., Sung-Kyun-Kwan Univ.) ;
  • Choi, Soo-Young (The Dept. of Electrical & Computer Eng., Sung-Kyun-Kwan Univ.) ;
  • Park, Ki-Heon (The Dept. of Electrical & Computer Eng., Sung-Kyun-Kwan Univ.)
  • 홍성희 (성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부) ;
  • 최수영 (성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부) ;
  • 박기헌 (성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부)
  • Published : 2000.07.17
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Abstract

RTP(Rapid Thermal Processing)은 IC제조 공정과 관련된 열처리 과정에 사용되는 단일 웨이퍼프로세스 기술이다. 반도체 웨이퍼를 고속 열처리할 때 웨이퍼별로 작은 반응실에서 가열, 가공, 냉각된다. 현재 사용되는 반도체 열처리장비는 고온로(furnace)에의해 대부분 이루어지지만, 시간이 많이 걸려서 주문형반도체 생산과 같은 다양한 종류의 웨이퍼를 소량 생산하는데는 부적절하다. 이에 매우 적은 시간이 소요되는 RTP장비가 많이 연구되고 있다. 그러나 RTP는 예기치 못한 몇 가지의 문제점을 일으킨다. 그중 하나는 웨이퍼 표면에 분포된 온도의 불 균일성이다. 이러한 불 균일성은 웨이퍼의 표면에 심각한 왜곡(distortion)을 일으켜 좋지 못한 결과를 가져오게 한다. 이번 논문의 목적은 RTP시스템을 수학적으로 모델링하고, 이를 이용하여 멀티 램프 시스템의 입력값을 조절하여 이미 배치된 램프에 대한 최적의 온도 균일도에 알맞은 각 램프입력을 구하여 램프 입력 프로파일을 만들고 또한 이를 이용하여 외란에 대한 PID 제어기 설계를 목표로 한다.

Keywords