Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical Engineers (대한전기학회)
권호 표지

Fabrication of Microbolometer using Polyimide Sacrificial Layer

폴리이미드 희생층을 이용한 마이크로 볼로미터의 제작

  • Ha, W.H. (Korea Institute of Science and Technology) ;
  • Kang, H.K. (Korea Institute of Science and Technology) ;
  • Kim, M.C. (Korea Institute of Science and Technology) ;
  • Moon, S. (Korea Institute of Science and Technology) ;
  • Oh, M.H. (Korea Institute of Science and Technology) ;
  • Kim, D.H. (Department of Material Science, Yonsei University) ;
  • Choi, J.S. (Department of Material Science, Yonsei University)
  • 하원호 (한국과학기술원 정보재료.소자 연구센터) ;
  • 강호관 (한국과학기술원 정보재료.소자 연구센터) ;
  • 김민철 (한국과학기술원 정보재료.소자 연구센터) ;
  • 문성욱 (한국과학기술원 정보재료.소자 연구센터) ;
  • 오명환 (한국과학기술원 정보재료.소자 연구센터) ;
  • 김도훈 (연세대학교 금속공학과) ;
  • 최종술 (연세대학교 금속공학과)
  • Published : 1999.11.20
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Abstract

저가의 우수한 성능을 갖는 적외선 영상표시 소자 구현에 적합한 마이크로 볼로미터를 MEMS 기술을 사용하여 제작하였다. 작은 열질량을 갖는 마이크로미터 단위의 열적고립 구조(thermal isolation structure) 제작은 폴리이미드(PI2611)를 희생층으로 사용하여 최종적으로 ashing공정 단계에서 폴리이미드를 제거하여 마이크로 볼로미터 구조를 완성하였다. 이 때의 구조층으로는 PECVD 질화실리콘($SiN_x$) 박막, 감지층으로 산화바나듐($VO_x$) 박막을 사용하였다. 본 연구에서는 폴리이미드 패턴 형성시 건식식각 공정조건 변수에 따라서 패턴의 기울기를 조절하여 폴리이미드 측면에서 발생되는 불 균일한 박막 증착과 패터닝 문제를 개선하였다. 또한 저응력의 질화실리콘 박막을 사용하여 잔류응력에 의한 열적고립 구조의 뒤틀림 현상을 완화하였다.

Keywords