The study of $Fe_2O_3$ application as a etching mask materials of GaN

GaN 식각 mask로 $Fe_2O_3$의 응용에 관한 연구

  • 성연준 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 박준용 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 이용혁 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 이재원 (삼성종합기술원 광반도체 연구실) ;
  • 김태일 (삼성종합기술원 광반도체 연구실)
  • Published : 1999.05.01