유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성

Etch characteristics of ITO using inductively coupled plasmas

  • 박준용 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 김정식 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 김현수 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실)
  • 발행 : 1999.05.01