Characteristics of Copper film by Pulsed Electrodeposition for ULSI Interconnection

펄스전해증착법에 위해 형성된 ULSI 배선용 구리 박막의 특성 연구

  • 이경우 (한양대학교 금속공학과) ;
  • 신창희 (한양대학교 미세구조반도체공학과) ;
  • 박종완 (한양대학교 금속공학과)
  • Published : 1999.10.01