Study of Ir/PZT/$_TiO2$/Si (MFIS) Capacitors for NDRO Memory Devices

NDRO형 기억소자용 Ir/PZT/$TiO_2$/Si (MFIS) 캐퍼시터 연구

  • 김형석 (국민대학교 금속재료공학과) ;
  • 김지영 (국민대학교 금속재료공학과)
  • Published : 1998.11.01