r.f. 마그네트론 스퍼터링법에 의해 제조된 $SrBi_2Ta_2O_9$ 박막의 후열처리에 의한 배향 성장 및 강유전 특성

• 배철휘 (한국과학기술연구원 박막기술연구센터) ;
• 이전국 (한국과학기술연구원 박막기술연구센터) ;
• 이시형 (한국과학기술연구원 박막기술연구센터) ;
• 채희권 (한국 외국어대 화학과) ;
• 정형진 (한국 외국어대 화학과)

• 발행 : 1998.06.01

• PDF