Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 1997.11a
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- Pages.336-338
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- 1997
The Effects of Post-annealing on Laser CVD SiON Films
Laser CVD SiON막의 막 형성 후 열처리 의존성
- Kim, C.D. (Dept.of Electrical Engineering, Korea Univ.) ;
- Kim, I.S. (Dept.of Electrical Engineering, Korea Univ.) ;
- Koh, J.H. (Dept.of Electrical Engineering, Korea Univ.) ;
- Lee, S.K. (Dept.of Electrical Engineering, Korea Univ.) ;
- Sung, Y.K. (Dept.of Electrical Engineering, Korea Univ.)
- 김창덕 (고려대학교 대학원 전기공학과) ;
- 김인수 (고려대학교 대학원 전기공학과) ;
- 고중혁 (고려대학교 대학원 전기공학과) ;
- 이상권 (고려대학교 대학원 전기공학과) ;
- 성영권 (고려대학교 대학원 전기공학과)
- Published : 1997.11.29
Abstract
The anneal behavior of ArF excimer Laser CVD SiON films has been studied using FT-IR absorption spectroscopy. The anneal temperature range was
Keywords