한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 1997년도 추계학술대회 논문집
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- Pages.90-93
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- 1997
고주파 스펴터링에 의한 Ef$^+$ :SiO$_2$ 박막 제작 특성
The characteristic of Er$^+$ :SiO$_2$ thin film preparation by rf sputtering method
초록
고주파 반응성 스퍼터링 방법을 사용하여 희토류가 첨가된 SiO
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