Effects of post annealing and oxidation processes on the removal of damage generated during the shallow trench etch process

Shallow trench 식각 공정시 발생하는 손상의 후속 열처리 및 산화공정에 따른 거동에 관한 연구

  • 이영준 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 황순원 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이주욱 (한국과학기술원 전자재료공학과) ;
  • 이정용 (한국과학기술원 전자재료공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과)
  • Published : 1997.10.01