A Study of Magnetically Confined Inductively Coupled Plasma Characteristics and Its Application to Oxide Etch for Optical Waveguide Fabrication

자장 강화된 유도결합형 플라즈마 특성 및 광도파로형 산화막 식각에의 응용

  • 안경준 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구) ;
  • 김현수 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구) ;
  • 이용혁 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구) ;
  • 우형철 (코리아 바큠테크(주))
  • Published : 1997.10.01