GaN 식각에 $SiO_2$ mask를 이용한 식각특성

  • 김현수 (성균관 대학교 재료공학과 반도체 공정 연구실) ;
  • 안경준 (성균관 대학교 재료공학과 반도체 공정 연구실) ;
  • 염근영 (성균관 대학교 재료공학과 반도체 공정 연구실) ;
  • 김진석 (삼성종합기술원 강반도체 연구실) ;
  • 이재원 (삼성종합기술원 강반도체 연구실) ;
  • 유명철 (삼성종합기술원 강반도체 연구실) ;
  • 김태일 (삼성종합기술원 강반도체 연구실)
  • Published : 1997.07.01