헬리콘 프라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각 특성

• 김정훈 (서울대학교 전기공학부, 플라즈마 연구실) ;
• 김진성 (서울대학교 전기공학부, 플라즈마 연구실) ;
• 김윤택 (서울대학교 전기공학부, 플라즈마 연구실) ;
• 황기웅 (서울대학교 전기공학부, 플라즈마 연구실) ;
• 주정훈 (군산대학교 재료공학과)

• 발행 : 1997.02.01

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