Magnetized Inductively Coupled High Density Plasma for Advanced Contact Etching

진보된 컨택 식각을 위한 자화 유도 결합 고밀도 플라즈마

  • 이호준 (서울대학교 전기전자공학부) ;
  • 김정훈 (서울대학교 전기전자공학부) ;
  • 김중균 (서울대학교 전기전자공학부) ;
  • 황기웅 (서울대학교 전기전자공학부) ;
  • 주정훈 (군산대학교 재료공학과) ;
  • 김정호 (현대전자산업주식회사)
  • Published : 1997.02.01