PECVD 증착 변수와 in-situ IR cell을 이용한 온도별 a-Si:H 의 특성 변화

  • 강진규 (포항공대 화공과 정보전자재료화학 연구실) ;
  • 박영배 (포항공대 화공과 정보전자재료화학 연구실) ;
  • 이시우 (포항공대 화공과 정보전자재료화학 연구실)
  • 발행 : 1997.02.01