Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical Engineers (대한전기학회)
권호 표지

Growth of $(Pb_{0.72}La_{0.28})Ti_{0.93}O_3$ thin film by pulsed laser deposition

펄스 레이저 증착법에 의한 $(Pb_{0.72}La_{0.28})Ti_{0.93}O_3$ 박막의 증착

  • Eun, Dong-Seog (Department of Electrical Engineering, Yonsei University) ;
  • Park, Jeong-Heum (Department of Electrical Engineering, Yonsei University) ;
  • Lee, Sang-Yeol (Department of Electrical Engineering, Yonsei University) ;
  • Park, Chang-Yub (Department of Electrical Engineering, Yonsei University)
  • 은동석 (연세대학교 전기공학과) ;
  • 박정흠 (연세대학교 전기공학과) ;
  • 이상렬 (연세대학교 전기공학과) ;
  • 박창엽 (연세대학교 전기공학과)
  • Published : 1997.07.21
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Abstract

유전체 PLT(28) ($Pb_{0.72}La_{0.28}Ti_{0.93}O_3$) 박막을 레이저 어블레이션 기법으로 Pt/Ti/$SiO_3$/Si기판을 $500^{\circ}C{\sim}700^{\circ}C$까지 가열한 상태에서 $O_2$분위기에서 증착시켰다. 증착된 박막은 SEM, XRD 등의 구조적 분석을 통하여 $600^{\circ}C$이상에서 증착된 경우, (111)방향으로 우세하게 성장한, 결정성이 양호한 박막임을 확인하였다. 박막의 전기적 특성은, 증착 온도가 $650^{\circ}C$일 때 약 1400정도의 높은 비유전율을 얻었으며, 전하저장밀도는 100[KV/cm]에서 약 9[${\mu}C/cm^2$]이었다.

Keywords