Formation of Ultra-Shallow Junctions using Epitaxial $CoSi_2$ Thin Film as Diffusion Soruces

$CoSi_2$ 에피박막을 확산원으로 이용한 매우 얇은 접합의 형성

  • 김종렬 (수원대학교 전자재료공학과) ;
  • 홍성윤 (현대전자(주) 반도체 사업부) ;
  • 윤명로 (현대전자(주) 반도체 사업부) ;
  • 조윤성 (현대전자(주) 반도체 사업부) ;
  • 배규식 (현대전자(주) 반도체 사업부)
  • Published : 1996.05.01