Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)

The Korean Vacuum Society (한국진공학회)
권호 표지

Effects of Bias Frequency on RIE Rag in Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching System

  • 도현호 (서울대학교 전기공학부 플라즈마 연구실) ;
  • 연충규 (LG 반도체 선행 공정 2팀) ;
  • 황기웅 (서울대학교 전기공학부 플라 즈마 연구실)
  • Published : 1996.06.01
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