Proceedings of the Optical Society of Korea Conference (한국광학회:학술대회논문집)

Optical Society of Korea (한국광학회)
권호 표지

The applicability of antireflective layer in 0.25$\mu$m lithographic process

0.25$\mu$m 리소그라피 공정에서 무반사 층의 응용

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  • Z. T. JIANG ;
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  • 전병혁 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 한상수 (한국과학기술원 재료공학과) ;
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  • 배병수 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 노광수 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김용범 (삼성전자 반도체연구소) ;
  • 김동완 (삼성전자 반도체연구소) ;
  • 강호영 (삼성전자 반도체연구소) ;
  • 고영범 (삼성전자 반도체연구소)
  • Published : 1996.09.01
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