XPS study of $RuO_2$ films deposited by reactive sputtering

  • 김태형 (금성중앙연구소 분석실) ;
  • 이종완 (금성중앙연구소 분석실) ;
  • 김동천 (금성중앙연구소 분석실) ;
  • 김성태 (금성중앙연구소 분석실)
  • Published : 1995.02.01