DC Magnetron Sputtering법으로 제작한 ITO 투명전도막의 특성

  • 김세종 (삼성코닝(주) 연구소 연구개발 2실) ;
  • 박장식 (삼성코닝(주) 연구소 연구개발 2실) ;
  • 신숙희 (삼성코닝(주) 연구소 연구개발 2실) ;
  • 김영삼 (삼성코닝(주) 연구소 연구개발 2실)
  • Published : 1995.02.01