$(NH_4)_2S_x$ 처리에 따른 $RuO_2$/n-GaAs 접촉장벽의 열적안정성

• 손맹호 (경기대학교 물리학과) ;
• 김은규 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센타) ;
• 박용주 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센타) ;
• 이종근 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센타) ;
• 최원철 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센타) ;
• 민석기 (한국과학기술연구원 반도체재료연구센타)

• 발행 : 1995.02.01

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