한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)

한국진공학회 (The Korean Vacuum Society)
권호 표지

Influence of different gas concentrations on the plasma etching mechanism for amorphous silicon thin films

  • 이종완 (금성중앙연구소 분석실) ;
  • 강성구 (금성사LCD SBU Pilot 생산실) ;
  • 김태형 (금성중앙연구소 분석실) ;
  • 김차연 (금성중앙연구소 분석실) ;
  • 김성태 (금성중앙연구소 분석실)
  • 발행 : 1994.06.01
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