Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)

The Korean Vacuum Society (한국진공학회)
권호 표지

Effect of Annealing Techniques on the Interface between Si and Ta2O5 film growth by MOCVD Precess

열처리 방법이 MOCVD에 의하여 증착된 탄탈륨 산화박막과 실리콘 계면에 미치는 영향

  • 박상규 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) ;
  • 남갑진 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) ;
  • 이영백 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실)
  • Published : 1994.06.01
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Abstract

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