Plasma Activated Evaporation 방법에 의해 증차된 Copper Phthalocyanine 박막의 $NO_x$ 농도 측정에 관한 연구

A Study on The $NO_x$ Semsing Characteristics of Copper Phthalocyanine Thin Films Deposited by Plasma Activated Evaporation Method

  • 최창구 (한국과학기술원 전자세라믹재료연구센터) ;
  • 이원종 (한국과학기술원 전자재료공학과)
  • 발행 : 1993.05.01