A Study on the Silicide Formation by Solid State Diffusion in Co/Si Multilayer Thin Films

Co/Si 다층박막에서 고상확산에 의한 실리사이드 생성에 관한 연구

  • 심재엽 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료연구실) ;
  • 지응준 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료연구실) ;
  • 곽준섭 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료연구실) ;
  • 최정동 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료연구실) ;
  • 백홍구 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료연구실)
  • Published : 1993.02.01