Multitarget Bias Co-Spputtering증착법에 의한 정합 CoSi$_2$층의 성장에 관한 연구

A Study on the Growth of Eppitaxial CoSi$_2$Layer by Multitarget Bias Co-Spputtering Depposition Method

  • 박상욱 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료 연구실) ;
  • 백홍구 (연세대학교 금속공학과 정련 및 박막재료 연구실)
  • 발행 : 1993.02.01