2 step W-CVD process using the poly Si for filling sub-micron contacts with high aspect ratio

서브마이크론 콘택을 매꾸기 위해 poly Si를 이용한 2단계 W-CVD

  • 최경근 (현대전자(주)반도체 연구소) ;
  • 황성보 (현대전자(주)반도체 연구소) ;
  • 박홍탁 (현대전자(주)반도체 연구소) ;
  • 고철기 (현대전자(주)반도체 연구소)
  • Published : 1992.05.01