Effects of Annealing Conditions on PECVD $Ta_{2}O_{5}$ Film on Silicon Substrate

열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향

  • 백용구 (현대전자 산업 주식 회사, 반도체 연구소) ;
  • 박영진 (현대전자 산업 주식 회사, 반도체 연구소) ;
  • 김종철 (현대전자 산업 주식 회사, 반도체 연구소) ;
  • 박헌섭 (현대전자 산업 주식 회사, 반도체 연구소)
  • Published : 1992.05.01