Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 1992.05b
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- Pages.55-56
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- 1992
$O_2$ plasma and thermal effects for removal of damaged layer formed by reactive ion etching
반응성 이온 건식식각시 형성되는 손상층의 제거를 위한 $O_2$ 플라즈마 및 열처리 효과
Abstract
Keywords