화학 증착(CVD)에 의한 선택적 수소 투과성 $SiO_2$ 무기막의 제조

  • 남석우 (한국과학기술연구원 에너지.반응공정연구실) ;
  • 홍성안 (한국과학기술연구원 에너지.반응공정연구실)
  • Published : 1992.04.01

Abstract

무기물질로 제조된 분리막은 대부분의 유기고분자 분리막에 비하여 열에 강하고, 구조의 안정성이 있으며, 유독 물질 및 미생물등에 영향을 덜받는다는 장점이 있어 폐수 처리, 식품 가공 및 생물 공학적 분리 목적으로 많은 연구가 진행되어 왔다. 최근 재료기술의 발달로 양질의 세라믹 분리막이 제조 가능하게 되었으며 다공성 alumina, zirconia, glass 분리막은 현재 4 nm - 5$\mu$m의 기공 범위로 상용화 되어 있다.

Keywords