Micro-Lithography의 광학적 원리

Optical Principle of Microlithography system

  • 발행 : 1991.07.01

초록

좋은(sub=micron) 분해능을 갖는 Photoresist film의 방법에 의한 Micro-Lithography의 발달은 반도체, Electro-Optic 등의 첨단산업에 큰 기여를 하였다. 본 내용은 이러한 PR을 이용한 Lithography System의 광학적인 원리에 대해 소개하고자 한다.

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